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富満 広
Philos.Mag.A, 43(2), p.469 - 498, 1981/00
中性子回折のトポグラフィーによって、Cu-5%Ge単結晶(ブリッジマン法製)の内部構造の観察を行った。その結果、その内部構造は成長方向に平行な(001)面が、間隔1mmで配列している「層状亜構造」であることがわかった。更に(001)層が微細な構造を有することも見出された。それは、中心の速い層に直角に、(100)や(010)の指数をもつ板が付着しているという構造である。これら三種類の{100}層構造は、表面の縞模様によく対応することがわかった。上記の亜構造モデルは、従来見出されていたセル構造やリニエジ構造とは異なるもので、新たな成長模様を示唆するものである。Appendexにおいて、トポグラフ上の像のコントラストがニ次消衰の回折理論を上記モデルに適用すれば、よく説明されることが示された。
富満 広; 鎌田 耕治; 土井 健治
Philos.Mag.A, 38(4), p.483 - 486, 1978/00
原研が中心になって行った中性子回折トポグラフィ技法を用いた最近の実験を速報の形でまとめたものである。第一は、ILLの高中性子束炉を用いた実験で、Si双晶片における等厚干渉縞の観察結果、および双晶各片がそれぞれ333反射と115反射とを同時に生じ、両片が可干渉の関係にあることの結論を報告する(国外との共同研究)。第二は、JRR-2のトポグラフィ装置を用いて、直径30mmのCu-5%Ge合金単結晶の観察である。ブリッジマン法で作られたインゴットの内部構造が、表面の目視観察とよく符合して、3種類の{100}面に平行な面状にGeが偏析を生じているらしいことが観察された。